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MikroTest G6麥考特測(cè)厚儀工作原理
工作原理:Mikrotest 麥考特依據(jù)磁吸引力原理。
測(cè)量磁鋼(3)與磁性基體(鋼或鎳)間的磁吸力與盤狀彈簧(6)的彈力平衡。盤狀彈簧的旋轉(zhuǎn)彈力的大小與涂層厚度直接相關(guān)。平衡臂(4)保證了各種方位的準(zhǔn)確測(cè)量(如在垂直面或仰面測(cè)量)。Mikrotest 6 型測(cè)厚儀無(wú)需電池就可直接工作,Mikrotest 7 型測(cè)厚儀則需要一節(jié)6V 堿性電池。
麥考特電鍍層測(cè)厚儀MIKROTEST G6易于操作,測(cè)量時(shí)只需向前旋動(dòng)指輪到標(biāo)尺端部,將測(cè)頭定在測(cè)量區(qū)上,松開自鎖機(jī)構(gòu),開始自動(dòng)測(cè)量。MIKROTEST鎖定后,就能直接在標(biāo)尺上顯示出涂層厚度的正確值,單位μm或mm。按說(shuō)明書規(guī)定操作,可不間斷地使用很多年,為您進(jìn)行質(zhì)量控制。
將Mikortest 麥考特測(cè)厚儀置于被測(cè)表面;將指輪向前旋轉(zhuǎn)到滿刻度以上部位(對(duì)于Nife50 和Ni50 是向前推到0 位)。讓磁頭吸附在被測(cè)表面;按下按鈕,指輪會(huì)自動(dòng)地順時(shí)針旋轉(zhuǎn),直到磁頭跳起,刻度盤也隨之自動(dòng)停止轉(zhuǎn)動(dòng),同時(shí)聽到“呵噠”一聲。此時(shí),刻度盤上的讀數(shù)即為所測(cè)量覆層的厚度值。
簡(jiǎn)單介紹:德國(guó)EPK公司MikroTest機(jī)械涂層測(cè)厚儀是一種非常堅(jiān)固的涂層厚度測(cè)量?jī)x,它根據(jù)磁吸引原理測(cè)量鋼基材上非磁性涂層的厚度。測(cè)量鋼上電鍍鎳涂層(MikroTest NiFe 50)和非鐵磁性基材(MikroTest Ni 50和Ni 100)的厚度。MikroTest耐溶劑,并通過(guò)金屬外殼極其耐用。*的ElektroPhysik制造工藝的磁鐵具有長(zhǎng)期的耐用性,這也使得它們?cè)趲资陜?nèi)保持在公差范圍內(nèi)。
所有儀器均符合DIN、ISO及ASTM標(biāo)準(zhǔn)。MIKROTEST*自動(dòng)操作。在使用時(shí)具有*的如下特性:
1.自動(dòng)測(cè)量不會(huì)發(fā)生誤操作
2.易于掌握并具有*精度
3.不用校準(zhǔn)、設(shè)定、檢測(cè)簡(jiǎn)便
4.不需要電池或其他電源
5.自動(dòng)報(bào)出厚度讀值
6.用無(wú)損測(cè)頭,一點(diǎn)測(cè)定
7.金屬鎧裝適于室外頻繁操作使用
8.抗機(jī)械沖擊、耐酸及溶劑腐蝕
9.平衡裝置消除地心引力影響,可在任意方向和管內(nèi)準(zhǔn)確測(cè)量。
在粗糙表面測(cè)量
在粗糙表面測(cè)量時(shí),讀數(shù)將增大(特別是在顆粒尖上)。在特別粗糙(如峰值超過(guò)50um 的鋼基體上,并且涂層厚度超過(guò)100um 時(shí),實(shí)際讀數(shù)高于涂層真實(shí)厚度達(dá)20%之多。在這種情況下應(yīng)至少測(cè)量6 次以上,得出平均值。
德國(guó)EPK公司MikroTest機(jī)械涂層測(cè)厚儀,無(wú)誤地測(cè)量:
鋼鐵上的涂層鍍層厚度
電鍍層,電鍍鎳層,磷化膜
油漆,粉末涂層
塑料,橡膠
自1948年德國(guó)Steingoever博士發(fā)明*臺(tái)利用磁吸力原理的測(cè)厚儀以來(lái),德國(guó)EPK公司一直是表面科技的*之一、是無(wú)損涂層厚度測(cè)量的。 ElektroPhysik公司(簡(jiǎn)稱EPK)總部位于德國(guó)科隆,是生產(chǎn)表面檢測(cè)儀器的,有超過(guò)60年的市場(chǎng)經(jīng)驗(yàn),研發(fā)和生產(chǎn)了品種繁多的的測(cè)量?jī)x器。質(zhì)量是EPK的主要目標(biāo),EPK從研發(fā)到使用、維修各個(gè)環(huán)節(jié),都符合ISO 9001:2000質(zhì)量體系,始終為每一個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域提供適合的產(chǎn)品。
EPK在不斷開發(fā)和創(chuàng)新科技產(chǎn)品過(guò)程中,贏得了良好的聲譽(yù)。作為無(wú)損檢測(cè)厚度行業(yè)的*,EPK與國(guó)內(nèi)的研究所和大學(xué)合作,實(shí)現(xiàn)了涂層厚度測(cè)量的成功發(fā)展和標(biāo)準(zhǔn)化。將來(lái),EPK將全力發(fā)展自己的產(chǎn)品以符合zui高技術(shù)要求。
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:張磊
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